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题名:
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集成电路工艺实验基础 [ 专著] Ji Cheng Dian Lu Gong Yi Shi Yan Ji Chu / 石建军，郭颖主编 , |
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ISBN:
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978-7-5669-2213-7 价格： CNY45.00 |
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语种:
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chi |
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载体形态:
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164页 图 26cm |
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出版发行:
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出版地： 上海 出版社： 东华大学出版社 出版日期： 2023 |
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内容提要:
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本书分3章，共26个实验，第1章为基础工艺，包含真空技术、硅片的清洗及氧化、光刻工艺流程实验教学、氧等离子体刻蚀等；第2章为检测测量技术，包含MSFET器件特性的测量与分析、椭圆偏振仪测薄膜厚度、紫外可见分光光度计测量亚甲基蓝溶液浓度等；第3章为工艺基础及应用，包含表面波等离子体放电实验、脉冲放电等离子体特性实验、低气压容性耦合等离子体特性实验等。 |
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主题词:
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集成电路工艺 实验 |
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中图分类法:
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TN405 版次： 5 |
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主要责任者:
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石建军 shi jian jun 主编 |
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主要责任者:
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郭颖 guo ying 主编 |
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附注:
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高等教育“十四五”部委级规划教材 |
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索书号:
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3 |