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题名:
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集成电路制造技术: 原理与工艺 / 王蔚,田丽,任明远 , |
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ISBN:
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978-7-121-20680-1 价格： 0.00 |
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载体形态:
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XII, 356页 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 电子工业出版社 出版日期： 20130001 |
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内容提要:
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本书分5个单元系统地介绍了当前硅集成电路制造普遍采用的工艺技术。第1单元介绍硅衬底, 主要介绍硅单晶的结构特点, 单晶硅锭的拉制, 硅片 (包含体硅片和外延硅片) 的制造工艺及相关理论。第2-5单元介绍硅芯片制造基本单项工艺 (氧化与掺杂、薄膜制备、光刻、工艺集成与封装测试) 的原理、方法、设备, 以及所依托的技术基础及发展趋势。 |
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主题词:
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集成电路工艺 |
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中图分类法:
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TN405 版次： |