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题名:
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多弧离子镀沉积过程的计算机模拟 / 赵时璐 , |
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ISBN:
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978-7-5024-6227-7 价格： 0.00 |
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载体形态:
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232页 21cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 冶金工业出版社 出版日期： 20130101 |
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内容提要:
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本书介绍了多弧离子镀沉积过程的计算机模拟。全书共分13章，主要内容包括：绪论、真空镀膜技术的介绍、多弧离子镀沉积过程模拟的理论基础、多弧离子镀物理过程的分析、计算机模拟技术、数学模型的建立、程序的编制、模拟的结果、模拟结果的讨论与验证、6个模块的主要程序代码等。 |
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主题词:
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计算机模拟 |
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中图分类法:
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TG174.444 版次： |