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题名:
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半导体薄膜技术基础 / 李晓干，刘勐，王奇 , |
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ISBN:
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978-7-121-32880-0 价格： 0.00 |
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载体形态:
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140页 26cm |
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出版发行:
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出版地： 北京 出版社： 电子工业出版社 出版日期： 20180101 |
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内容提要:
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本书主要内容包括：（1）初步掌握半导体薄膜器件的基本工艺，特别是与集成电路器件工艺过程相关知识。（2）硅基半导体衬底晶体材料的生长技术。（3）各种半导体薄膜材料常用的制备技术，如：物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、分子束外延（MBE）、液相外延（LPE）、各种溅射沉积技术等，需要重点掌握这些制备技术的特点、工作原理和工艺过程，以及在薄膜生长过程中的热力学、动力学知识等，（4）了解和掌握各种半导体薄膜微观结构的表征技术。 |
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主题词:
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半导体薄膜技术 |
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中图分类法:
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TN304 版次： |