题名:	计算光刻与版图优化 / 韦亚一 .. ,
ISBN:	978-7-121-40226-5 价格： 0.00
载体形态:	X, 238页 26cm
出版发行:	出版地：北京出版社：电子工业出版社出版日期： 20210001
主题词:	集成电路工艺
中图分类法:	TN405.98 版次：